Ярымүткәргеч литография системалары буенча глобаль лидер ASML күптән түгел яңа экстремаль ультрафиолет (EUV) литография технологиясе үсеше турында игълан итте. Бу технология ярымүткәргеч җитештерүнең төгәллеген сизелерлек яхшыртыр, кечерәк үзенчәлекләр һәм югары җитештерүчәнлек белән чиплар җитештерергә мөмкинлек бирер дип көтелә.
Яңа EUV литография системасы 1,5 нанометрга кадәр резолюциягә ирешә ала, хәзерге буын литография коралларына караганда яхшырак. Бу көчәйтелгән төгәллек ярымүткәргеч төрү материалларына зур йогынты ясаячак. Чиплар кечерәк һәм катлауланган саен, бу кечкенә компонентларның куркынычсыз ташылуы һәм саклануы өчен, югары төгәл йөртүче ленталарга, каплагычларга, роликларга сорау артачак.
Безнең компания ярымүткәргеч индустриясендә бу технологик казанышларны игътибар белән күзәтергә әзер. Без ярымүткәргеч җитештерү процессына ышанычлы ярдәм күрсәтеп, ASML-ның яңа литография технологиясе китергән яңа таләпләргә җавап бирә алырлык төрү материалларын эшкәртү өчен тикшеренүләр һәм эшләнмәләргә инвестицияләр салуны дәвам итәрбез.
Пост вакыты: 17-2025 февраль