Ярымүткәргеч литография системалары өлкәсендә глобаль лидер булган ASML күптән түгел яңа экстремаль ультрафиолет (EUV) литография технологиясен эшләү турында игълан итте. Бу технология ярымүткәргечләр җитештерүнең төгәллеген сизелерлек яхшыртачак, кечерәк үзенчәлекле һәм югарырак җитештерүчәнлеккә ия чиплар җитештерү мөмкинлеген бирәчәк дип көтелә.
Яңа EUV литография системасы 1,5 нанометрга кадәр чишелеш бирә ала, бу хәзерге литография кораллары белән чагыштырганда сизелерлек яхшыру. Бу югарырак төгәллек ярымүткәргеч төрү материалларына тирән йогынты ясаячак. Чиплар кечерәя һәм катлаулырак булган саен, бу кечкенә компонентларны куркынычсыз ташу һәм саклауны тәэмин итү өчен югары төгәллекле тасмаларга, каплагыч тасмаларга һәм катушкаларга ихтыяҗ артачак.
Безнең компания ярымүткәргечләр сәнәгатендәге бу технологик казанышларны игътибар белән күзәтеп барырга омтыла. Без ASML-ның яңа литография технологиясе китергән яңа таләпләргә туры килә торган төргәкләү материалларын эшләү өчен тикшеренүләргә һәм эшләнмәләргә инвестицияләр салуны дәвам итәчәкбез, ярымүткәргечләр җитештерү процессына ышанычлы ярдәм күрсәтәчәкбез.
Бастырып чыгару вакыты: 2025 елның 17 феврале